532nm窄帶濾光片
注:以上參數(shù)僅供參考，532nm窄帶濾光片參數(shù)指標(biāo)請咨詢我公司的在線客服人員或致電我公司。光學(xué)指標(biāo)：
中心波長 Center wavelength：532+/-2nm
入射角 Angle of incidence：0°
半峰值帶寬 Full Width at Half Maximum：20nm
峰值透過率 Transmission at CWL：>90%( 按客戶需求According to the customers’demand ）
產(chǎn)品尺寸 Prdouct size：3mm-80mm( Square or round )
截止波長 Cut off wavelength：200nm-1100nm( 按客戶需求According to the customers’demand ）
截止深度 Blocking：>OD4-OD6 UV-NIR
產(chǎn)品材質(zhì) Product material：光學(xué)級別類玻璃（ K9,BK7,B270,D263T,JGS1,顏色玻璃,浮法玻璃等 )
表面光潔度 Surface Quality：國標(biāo)三級，美軍標(biāo)60-40
532nm窄帶濾光片是從帶通濾光片中細(xì)分出來的，它的定義跟帶通濾光片一樣，都是在特定的波段允許光信號通過，而偏離這個(gè)波段以外的兩側(cè)光信號就被阻止了。然而窄帶濾光片的通帶相對來說是比較窄的，一般為中心波長值的5%以下，采用全介質(zhì)硬膜鍍膜的技術(shù)和介質(zhì)干涉的原理，在凸顯窄帶濾光片特性的基礎(chǔ)上，光學(xué)性能與基片厚度無關(guān)，我司生產(chǎn)的窄帶濾光片更便于內(nèi)置儀器成像系統(tǒng)里面，使之光學(xué)性能得以提升和有效應(yīng)用，采用特殊的光學(xué)材料基底，解決傳統(tǒng)意義上吸收型合成玻璃易發(fā)霧及光學(xué)性能不穩(wěn)定等問題，產(chǎn)品依據(jù)客戶的指標(biāo)需求予以生產(chǎn)制作。
相關(guān)名詞解釋
532nm窄帶濾光片主要應(yīng)用在生化儀、光學(xué)測量儀器、酶標(biāo)儀、生物識別、紅外醫(yī)療儀器、熒光分析儀、醫(yī)療檢測設(shè)備等。
使用注意事項(xiàng)：
1.使用時(shí)請戴好手指套，不要用手指直接觸碰532nm窄帶濾光片表面，以免殘留的手指影響窄帶濾光片通光效果。
2.如532nm窄帶濾光片表面臟時(shí)，可用無塵沾上酒精擦拭鏡片表面。不可用表面很粗糙的布或紙或沾水擦拭，否則會(huì)損壞532nm窄帶濾光片表面。
3.檢查光路各調(diào)整光軸時(shí)，請一定做好相應(yīng)的防護(hù)。
4.如果用了532nm窄帶濾光片后系統(tǒng)效果還是不好，請把詳細(xì)光路系統(tǒng)告訴我們，我們來幫您分析原因，讓您少走很多冤枉路。（當(dāng)然，我們會(huì)對客戶的方案保密，盡可放心！和客戶一起成長是我們不變的宗旨）。
針對軟膜的外緣膠合封裝結(jié)構(gòu)是采用的一種獨(dú)特的結(jié)構(gòu)，通常使用在帶通濾光片或截止濾光片上。濾光膜層（如窄帶介電帶通膜層、ITF膜層、寬帶介電帶通膜層及反光鏡面膜層等）一般分別鍍在幾片獨(dú)立的基片平板上。根據(jù)濾光片最終的尺寸及形狀，我們對平板上的膜層及基板進(jìn)行平面的磨削加工，在平板上保留符合通光孔徑標(biāo)準(zhǔn)的膜層，并且將多余的膜層磨削去除，同時(shí)也磨去一定厚度在通光孔徑周圍的基板材料。將兩塊或多塊基板材料用環(huán)氧樹脂膠合在一起。這樣在軟膜的周圍可以形成玻璃—環(huán)氧樹脂—玻璃的密封結(jié)構(gòu)，可以最大限度的保護(hù)潮濕氣體對鍍膜層的損害。經(jīng)過膠合工藝后，對外緣進(jìn)行加工及可以得到需要尺寸的濾光片成品。
這種結(jié)構(gòu)通常用在需要信噪比很高，而且要求通光孔徑比很高（通光區(qū)域外的尺寸太小，不能用外緣膠合封裝結(jié)構(gòu)）的帶通濾光片上。濾光膜層（如窄帶介電帶通膜層、ITF膜層、寬帶介電帶通膜層及反光鏡面膜層等）一般分別鍍在幾片獨(dú)立的基片平板上，并且直接膠合在一起。設(shè)計(jì)工程師通常會(huì)選用化學(xué)穩(wěn)定性及耐潮性能較好的鍍膜膜料，以防止以后潮濕氣體對膜層的損害。這種工藝也可以根據(jù)客戶的要求，調(diào)整或附加抗?jié)癖Ｗo(hù)層以滿足客戶對使用壽命的需求。
一種制作濾光片紅外材料透鏡的方法，可增加一半導(dǎo)體晶片上的一濾光片附著力并避免光線的跨越干擾現(xiàn)象;該方法是先于該半導(dǎo)體晶片上形成一介電層以覆蓋設(shè)于該半導(dǎo)體晶片上的MOS晶體管感測器;然后于該介電層上形成復(fù)數(shù)個(gè)金屬層約略設(shè)置于各MOS晶體管感測器兩側(cè)上方;接著形成一保護(hù)層，并于該保護(hù)層上形成一第一濾光片，其兩側(cè)與下方的兩該金屬層約略對齊;之后依序于該保護(hù)層上形成一第二濾光片以及一第三濾光片且分別部分相疊于該第一濾光片的一側(cè);其中各濾光片相疊的部分可以提高各該濾光片的附著力，同時(shí)形成一光線阻障層，以避免光線的跨越干擾紅外濾光片的作用就是透紅外光截止可見光。這樣即使在光線不好或沒有的情況下，相機(jī)仍然可以拍攝不過是黑白效果了。
